特許
J-GLOBAL ID:200903024097922251
ウェーブ平坦化装置を用いた片側供給待機粉体ウェーブの加熱
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
柳田 征史
, 佐久間 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-155060
公開番号(公開出願番号):特開2005-335392
出願日: 2005年05月27日
公開日(公表日): 2005年12月08日
要約:
【課題】 レーザー焼結により三次元物体を成形する方法および装置において、機構数の削減および粉体の予熱方法を改善することによりコスト効率を向上させると共に塵雲の発生を大幅に低減する。【解決手段】 2つの連続した層の成形に必要な量の粉体を処理チャンバーの1つの側にデポジットし、第2層の粉体を処理チャンバーの部品ベッドの反対側に搬送すると同時に第1の層を拡散する。計量分配された粉体ウェーブを部品ベッドの加熱器が見える位置に待機させ、予熱する前に傾斜カバーを備えたローラー機構により粉体ウェーブを平坦化することにより予熱効果を改善する。また、傾斜カバーにより粉体がオーバーヘッド供給装置から処理チャンバーに落下する際の粉塵の発生を低減する。 【選択図】 図9
請求項(抜粋):
レーザー焼結によって三次元物品を成形する方法であって、
(a)第1粉体量を標的領域の第1の側にデポジットする第1デポジット・ステップ、
(b)前記標的領域の第1の側の前記第1粉体量を平坦にする第1平坦化ステップ、
(c)前記第1粉体量を拡散機構によって拡散し第1粉体層を形成する第1拡散ステップ、
(d)前記標的領域にエネルギー・ビームを照射し前記第1粉体層を第1の完全な層と成すステップ
(e)第2粉体量を前記標的領域の第1の側とは反対の第2の側にデポジットする第2デポジット・ステップ、
(f)前記標的領域の第2の側の前記第2粉体量を平坦にする第2平坦化ステップ、
(g)前記第2粉体量を前記拡散機構によって拡散し第2粉体層を形成する第2拡散ステップ、
(h)前記標的領域にエネルギー・ビームを照射し前記第2粉体層を前記第1の完全な層に結合された第2の完全な層と成すステップ、
(i)三次元物品を成形するため、前記ステップ(a)〜(g)を反復し隣接層と一体化された別の層を成形するステップ、
の各ステップを有して成る方法において、
前記第1デポジット・ステップが前記第1粉体量を前記拡散機構の前に供給し、前記第2粉体量を該拡散機構に供給することを含み、前記第1拡散ステップにおいて前記2粉体量を前記標的領域の第1の側から第2の側に搬送し、前記第2デポジット・ステップが前記第2粉体量を移動中の前記拡散機構から除去し前記標的領域の第2の側にデポジットすることを含んでいることを特徴とする方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (12件):
4F213AA13
, 4F213AA29
, 4F213WA25
, 4F213WA83
, 4F213WA97
, 4F213WB01
, 4F213WL02
, 4F213WL03
, 4F213WL32
, 4F213WL46
, 4F213WL67
, 4F213WL87
引用特許:
出願人引用 (4件)
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米国特許第4863538号明細書(テキサス・システム大学、Board of Regent)
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米国特許第5132143号明細書(テキサス・システム大学、Board of Regent)
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米国特許第4944817号明細書(テキサス・システム大学、Board of Regent)
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米国特許第4247508号明細書(Housholder)
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審査官引用 (5件)
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