特許
J-GLOBAL ID：200903024121264643
パターン形成材料及びパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-099538
公開番号（公開出願番号）：特開平11-297597
出願日： 1998年04月10日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：
【要約】【課題】光及び荷電粒子線のいずれに対しても高い感度を有し、かつ、光及び荷電粒子線のいずれを用いて露光した場合においても良好な形状のレジストパターンを形成することが可能なパターン形成材料及びパターン形成方法を提供すること。【解決手段】本発明のパターン形成材料は、酸を適用することによりアルカリ溶液に対する溶解性に変化を生ずる溶解性可変化合物、フォトリソグラフィープロセスで使用される露光光を照射することにより酸を発生する第1の酸発生剤、及び前記露光光を透過し、荷電粒子線を照射することにより酸を発生する第2の酸発生剤を含有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
酸を適用することによりアルカリ溶液に対する溶解性に変化を生ずる溶解性可変化合物、フォトリソグラフィープロセスで使用される露光光を照射することにより酸を発生する第1の酸発生剤、及び前記露光光を透過し、荷電粒子線を照射することにより酸を発生する第2の酸発生剤を含有することを特徴とするパターン形成材料。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/004 503
H01L 21/30 502 R
, G03F 7/004 503 A
