特許

J-GLOBAL ID：200903028579099663

レジスト材料およびレジストパターン形成方法

発明者： 木村 良佳
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-065814
公開番号（公開出願番号）：特開平8-262743
出願日： 1995年03月24日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：

【要約】【目的】 電子ビーム描画技術および光転写技術の両技術を利用可能なレジスト材料を得る。【構成】 電子ビームに対してのみ感度を有する第1の酸発生剤11と、光に対する感度を有する第2の酸発生剤12と、ポリマー主鎖13aおよび保護基13bから成る酸崩壊型樹脂13とを備える。

請求項（抜粋）：

電子ビームに対してのみ感度を有する第1の酸発生剤と、光に対する感度を有する第2の酸発生剤とを備えたことを特徴とするレジスト材料。

IPC (5件)：

G03F 7/38 511 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/38 511 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 541 M ,  H01L 21/30 541 K ,  H01L 21/30 568

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 感光性樹脂
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-285774   出願人：日本電気株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-340981   出願人：日本合成ゴム株式会社