特許
J-GLOBAL ID：200903024176964725

レジスト材料

発明者：
山名 慎治

山名 慎治 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-270113
公開番号（公開出願番号）：特開平10-115922
出願日： 1996年10月11日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：
【要約】【課題】 化学増幅系レジスト特有の引き置き後の解像力,焦点深度,寸法精度の低下を抑制し、引き置き耐性の向上を図る。【解決手段】 塩基性の官能基を結合させたベース樹脂を用いる、もしくは塩基性の官能基を結合させた樹脂を添加し、引き置き時の酸、もしくは酸と酸を中和する物質との結合体の未露光部への拡散による寸法変動を抑制する。
請求項（抜粋）：
少なくともアルカリ難溶の保護基を有するベース樹脂と、光酸発生剤とからなる化学増幅系レジスト材料であって、ベース樹脂は、レジスト中に発生した酸に対して塩基として作用する塩基性の官能基を結合した樹脂であることを特徴とするレジスト材料。
IPC (4件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (4件)
  • 感放射線性樹脂組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-270332   出願人：日本合成ゴム株式会社
  • ポジ型感光性組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-252351   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • 特開平4-075062
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