特許
J-GLOBAL ID：200903024205483120
パターン露光方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小林 和憲
, 飯嶋 茂
, 小林 英了
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-239061
公開番号（公開出願番号）：特開2007-102200
出願日： 2006年09月04日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：
【課題】フレキシブルな形状で搬送方向に周期的なパターンを高スループットで、かつ設備投資を抑制した簡易な設備で形成することのできるパターン露光方法及び装置を提供する。【解決手段】感光層が設けられた帯状ワーク11は、ワーク搬送速度Vでワーク搬送方向Fに搬送される。第1照明部30は、ワーク搬送速度Vに同期され、かつ露光するパターンに合せて決められた露光周期T1で、第1フォトマスク29に光を照射する。第2照明部66は、ワーク搬送速度Vに同期され、かつ露光するパターンに合せて決められた露光周期T2で、第2フォトマスク65に光を照射する。第1フォトマスク29及び第2フォトマスク65は、帯状ワーク11に対してプロキシミティギャップを隔てて配置されており、それぞれのマスクパターンが周期的なパターンとして帯状ワーク11に露光される。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
搬送方向に沿って配置された複数のフォトマスクに、感光層を有する帯状もしくはシート状のワークを近接させて連続搬送するステップと、
前記各フォトマスクをそれぞれ含む複数の露光部により、ワーク搬送速度に同期された露光周期及び露光時間で、各フォトマスクを介してプロキシミティ露光を行うステップを含み、
各フォトマスクに設けられたマスクパターンが搬送方向に周期的なパターンとしてワークに露光されることを特徴とするパターン露光方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/20 501
, G03F9/00 Z
2H097AA06
, 2H097AA12
, 2H097AA16
, 2H097AB07
, 2H097BB01
, 2H097CA05
, 2H097CA17
, 2H097DB07
, 2H097DB12
, 2H097GA45
, 2H097GB02
, 2H097KA03
, 2H097KA13
, 2H097KA23
, 2H097LA11
