特許
J-GLOBAL ID：200903024205550277

基板洗浄装置および基板洗浄方法

発明者：
岡本 伊雄

岡本 伊雄 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-316262
公開番号（公開出願番号）：特開2002-124504
出願日： 2000年10月17日
公開日（公表日）： 2002年04月26日
要約：
【要約】【課題】基板表面の微細な異物を十分に除去し、基板表面の洗浄力を向上させることが可能な基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。【解決手段】スピンチャック12によって回転軸Rを中心に回転されているウエハWに対して、ノズル21a,21bから洗浄液としてのハイドロフルオロエーテルが供給されている。そして、この洗浄液には超音波ヘッド部22a,22bによって超音波振動が付与されており、ウエハW表面は、超音波が付与されたハイドロフルオロエーテルによって洗浄される。
請求項（抜粋）：
回転する基板に洗浄液を供給して基板を洗浄する基板洗浄装置において、基板を保持しつつ回転させる基板回転手段と、この基板回転手段によって回転されている基板に、ハイドロフルオロエーテルを含む洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、この洗浄液供給手段によって基板に供給される上記ハイドロフルオロエーテルを含む洗浄液に超音波振動を付与する超音波付与手段と、を備えることを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (9件)：
H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 644 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/12 ,  C11D 7/28
FI (9件)：
H01L 21/304 647 A ,  H01L 21/304 622 Q ,  H01L 21/304 643 D ,  H01L 21/304 644 B ,  H01L 21/304 644 C ,  B08B 3/02 C ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 3/12 D ,  C11D 7/28
Fターム (15件)：
3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BA02 ,  3B201BA08 ,  3B201BA13 ,  3B201BB24 ,  3B201BB45 ,  3B201BB85 ,  3B201BB95 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  4H003DA15 ,  4H003DC04 ,  4H003ED29
引用特許：
審査官引用 (3件)

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