洗浄装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-056001
公開番号（公開出願番号）：特開平11-238713
出願日： 1998年02月20日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：

【要約】【課題】基板例えば半導体ウエハを洗浄する場合に、ウエハの周縁部よりも中央寄りの領域のみならず、周縁部も洗浄できる洗浄装置を提供すること。【解決手段】ウエハWを回転ガイド部材2により水平に保持し、当該回転ガイド部材2でウエハWの周縁部を周方向に送り出して当該ウエハWを回転させる。ウエハWを洗浄する洗浄ブラシ31,32と、ウエハWのほぼ回転中心に洗浄液を供給する主ノズル41,42と、ウエハWの周縁部近傍位置に洗浄液を供給する補助ノズル51,52とを設ける。補助ノズル51,52をメガソニックノズルにより構成し、当該ノズルからは超音波により振動が与えられた洗浄液を供給して、ウエハWと洗浄ブラシ31,32とを摺動させることにより、当該ウエハWを洗浄する。超音波振動が与えられた洗浄液は回転ガイド部材2とウエハWとの隙間に入り込み、これによりウエハWの周縁部と端面が洗浄される。

請求項（抜粋）：

基板の周縁部を保持し、基板をその板面に沿って回転させる基板保持部と、前記基板の周縁部よりも中央寄りの領域を洗浄するために基板に洗浄液を供給する主洗浄液供給部と、前記基板の板面に接触し、基板を洗浄する洗浄部材と、前記基板の周縁部を洗浄するために基板に洗浄液を供給する補助洗浄液供給部と、この補助洗浄液供給部から供給される洗浄液に超音波を発振してこの洗浄液を振動させる超音波発振部と、を備えたことを特徴とする洗浄装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 644 , H01L 21/304 643 , B08B 3/02 , B08B 3/12

FI (4件)：

H01L 21/304 644 B , H01L 21/304 643 A , B08B 3/02 B , B08B 3/12 C

引用特許：

審査官引用 (7件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-032273 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板洗浄方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-286730 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平1-105376

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