回路パターンの検査方法及びその装置並びに欠陥候補の表示方法及びそのシステム

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-045569
公開番号（公開出願番号）：特開2003-006614
出願日： 2002年02月22日
公開日（公表日）： 2003年01月10日
要約：

【要約】【課題】本発明は、半導体材料上の回路パターン中の欠陥を検査する、方法とシステムとを含む技術を提供する。【解決手段】1つの特定実施形態は試行検査しきい値設定方法を提供するが、そこでは初期しきい値が試行検査格納データの欠陥分析の後修正される。その後修正されたしきい値が実際の検査でしきい値として使用される。

請求項（抜粋）：

コンピュータを使用して、検査システムからの複数の画像に対して欠陥分析を行う方法であって、コンピュータ可読媒体中に前記複数の画像を格納するステップと、格納された複数の画像の第1画像から検査画像を検索するステップと、前記格納された複数の画像の第2画像から対応する基準画像を検索するステップと、欠陥が存在するかを決定するために前記検査画像と前記対応する基準画像とを分析するステップとを含むことを特徴とする回路パターンの検査方法。

IPC (4件)：

G06T 1/00 305 , G01N 21/956 , G01N 23/225 , H01L 21/66

FI (4件)：

G06T 1/00 305 A , G01N 21/956 A , G01N 23/225 , H01L 21/66 J

Fターム (38件)：

2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001CA03 , 2G001FA01 , 2G001FA06 , 2G001GA01 , 2G001GA06 , 2G001HA09 , 2G001HA13 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001PA11 , 2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AA71 , 2G051AB02 , 2G051AC21 , 2G051EA08 , 2G051EA11 , 2G051EA21 , 2G051EB01 , 2G051EB02 , 2G051EC02 , 2G051ED08 , 2G051FA01 , 4M106AA01 , 4M106CA38 , 4M106DB30 , 5B057AA03 , 5B057BA01 , 5B057BA02 , 5B057BA30 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DB05 , 5B057DB09 , 5B057DC32

引用特許：

出願人引用 (7件)

パターン検査装置およびその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-238812 出願人：株式会社日立製作所
外観検査装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-341810 出願人：株式会社東京精密
特開平3-102846

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審査官引用 (11件)

外観検査装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-341810 出願人：株式会社東京精密
パターン検査装置およびその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-238812 出願人：株式会社日立製作所
特開平3-102846

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