特許
J-GLOBAL ID:200903024479989895
研磨方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-044316
公開番号(公開出願番号):特開平7-193034
出願日: 1994年03月15日
公開日(公表日): 1995年07月28日
要約:
【要約】【目的】本発明は、実用上問題がない程度に配線表面に生じる傷(粗れ)およびディッシングの発生を抑制して研磨することができる研磨方法を提供することを目的とする。【構成】表面に凹部を有する基板上に少なくとも前記凹部を充填するように被研磨膜を形成する工程と、研磨粒子および溶媒を含むpH7.5以上の研磨剤を用いて前記被研磨膜を研磨して前記凹部内に前記被研磨膜を選択的に残存させる工程とを具備することを特徴としている。
請求項(抜粋):
表面に凹部を有する基板上に少なくとも前記凹部を充填するように金属からなる被研磨膜を形成する工程と、研磨粒子および溶媒を含むpH7.5以上の研磨剤を用いて前記被研磨膜を研磨して前記凹部内に前記被研磨膜を選択的に残存させる工程と、を具備することを特徴とする研磨方法。
IPC (3件):
H01L 21/304 321
, H01L 21/304
, B24B 37/00
引用特許:
審査官引用 (8件)
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特開平4-264728
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特開昭52-011859
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特開平2-187027
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シリコンウェーハの鏡面加工法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-147699
出願人:新日本製鐵株式会社
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特開昭52-030159
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特開平4-291723
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特開平4-291722
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評価方法及びシリコンウェハ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-061594
出願人:株式会社日立製作所
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