特許

J-GLOBAL ID：200903024595517151

基板処理装置

発明者： 梶野 一樹 ,  河村 隆
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-011111
公開番号（公開出願番号）：特開2004-223322
出願日： 2003年01月20日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：

【課題】基板付近に設けられた回収部から速やかに処理液を排出することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板Wを回転させることによって飛散される薬液は、回収ポート52fで受けとめられ、流路52gを介して排液槽28bに一時的に貯留される。そして、排液槽28bに一時的に貯留された薬液は、排液槽28bの底部に設けられた排出口93および複数の薬液回収配管83を介して排液槽28bの下方のに配置されたリングに貯留される。同様に、回収ポート53d、回収ポート54cで受けとめられた薬液は、それぞれ対応するリングに貯留される。これにより、排液槽28b〜28dに貯留された薬液をスピンベース10と離間した場所に速やかに排出することができる。そのため、排液槽28b〜28dに残存する薬液の影響を受けず、良好に基板処理を実施することができる。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

基板に所定の処理液を供給して基板処理を実施する基板処理装置において、 (a) 基板を略水平姿勢に保持しつつ、前記基板を略水平面内にて回転させる回転保持手段と、 (b) 前記回転保持手段を回転させることによって、前記基板から飛散する処理液を回収する第1の処理液回収手段と、 を備え、 前記第1の処理液回収手段は、 (b-1) 前記回転保持手段の側方に設けられ、回転によって前記基板から飛散する処理液を回収する第1の回収槽を有する回収部と、 (b-2) 前記第1の回収槽の下方に離間して設けられ、前記第1の回収槽の内側空間の形状と略同一な内側空間の形状を有する貯留槽と、前記第1の回収槽の底部と前記貯留槽の内部とを複数個所で連通させる複数の配管と、を有する貯留部と、 を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

B08B3/02 ,  H01L21/304

FI (3件)：

B08B3/02 B ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648F

Fターム (10件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB24 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CC01 ,  3B201CD22

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-089692   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• スピン処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-130179   出願人：芝浦メカトロニクス株式会社, 株式会社東芝