特許
J-GLOBAL ID：200903024658874790

フォトレジスト剥離剤組成物

発明者：
西嶋 佳孝

西嶋 佳孝 について

, 
小谷 武

小谷 武 について


出願人/特許権者：
ナガセ電子化学株式会社

ナガセ電子化学株式会社 について


代理人 (1件)： 塩出 真一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-069927
公開番号（公開出願番号）：特開平7-253678
出願日： 1994年03月14日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：
【要約】 (修正有)【構成】 アルキルアミン、又はアルキルアミンと極性有機溶剤との混合物を主成分とするフォトレジスト剥離剤に、一般式(I)で表わされる酸化防止剤及び一般式(II)で表わされる酸化防止剤の少なくとも1種を0.01〜30重量%添加してなるフォトレジスト剥離剤組成物。(式中、R1,R2,R3,R4はH、ハロゲン、ハイドロオキシ基等、を示す。)(式中、R1はハロゲン、ハイドロオキシ基、アミノ基等、を示す。nは1又は2を示す。)【効果】 毒性の強いシアン化水素の生成を抑制したフォトレジスト剥離剤組成物を得ることができる。
請求項（抜粋）：
アルキルアミン、又はアルキルアミンと極性有機溶剤との混合物を主成分とするフォトレジスト剥離剤に、一般式化1で表わされる酸化防止剤(I)及び一般式化2で表わされる酸化防止剤(II)の少なくとも1種を添加してなることを特徴とするフォトレジスト剥離剤組成物。【化1】【化2】
IPC (5件)：
G03F 7/42 ,  C09K 15/18 ,  C09K 15/32 ,  C23C 14/04 ,  H01L 21/027
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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