特許
J-GLOBAL ID：200903024672570770
露光方法、露光装置、およびデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-188276
公開番号（公開出願番号）：特開2001-015423
出願日： 1999年07月01日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：
【要約】【課題】像のコントラストが互いに異なる複数のマスクパターンを用いて多重露光するに際して、微細線の方向が混在している複雑なパターンを含め、すべての微細線を良好に再現するようにすること。【解決手段】多重露光を行うに際して、複数のマスクパターンのうちの複数の方向の微細線が交わるパターンあるいは隣接しているパターンから得られるコントラストが低いパターンの像の形成位置を、隣合うパターンの位相差が180度であるパターンの像で露光し、前記コントラストが低いパターンに関する露光量分布のコントラストを向上させる。
請求項（抜粋）：
二重露光によりある点を中心に複数の微細線が延びるパターン、あるいは複数の微細線の延長線が1点で交わるパターンであって、その微細線の数が奇数であるものを感光体に露光する露光方法であって、前記交点を中心に、隣り合う領域の位相差が180度の偶数個の境界を前記微細線の数より大なる数だけ配置した位相シフトマスクによる露光を含むことを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 514 A
, G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
2H095BA01
, 2H095BA07
, 2H095BB03
, 2H095BB36
, 5F046AA13
, 5F046AA25
, 5F046BA04
, 5F046BA08
, 5F046CA04
, 5F046CB17
, 5F046DA02
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)
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