被膜作製装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-103746
公開番号（公開出願番号）：特開平5-144754
出願日： 1981年11月30日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】プラズマ気相法に対し多量生産を可能にする横型反応方式を採用し、さらにそれらに共通室を設け連続的に製造する構造とすることによりバッチ方式と連続方式とを結合させることを可能とし、このためこの思想を基礎とし、2つの反応系、4〜8の反応系等を作ることができ、初めてPCVD装置で大量生産可能な方式を開発する。【構成】複数の反応室1,42,43と該複数の反応室の全てに連結された共通室7とを有し、各反応室で被膜作製が行われ、共通室7を通して基板が搬送される。

請求項（抜粋）：