特許
J-GLOBAL ID：200903024756078048
ターゲットとその製造方法および高屈折率膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-118763
公開番号（公開出願番号）：特開平8-158048
出願日： 1995年05月17日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：
【要約】【構成】表面が荒らされた金属基体上に、特定の熱膨張係数を有するアンダーコート、TiO<SB>x</SB> (1<x<2)を主成分とするセラミックス層が順次形成されたターゲットとその製造方法および高屈折率膜の形成方法。【効果】本発明のターゲットは均質で高密度であり熱ショックにも強く、容易に任意の形状の構造に対応でき、該ターゲットにより高屈折率の膜が高速度にしかも安定に生産できる。
請求項（抜粋）：
金属基体の表面を荒らし、その上にプラズマ溶射により金属または合金からなるアンダーコートを形成し、次いで、セラミックス粉末を還元下の高温プラズマガス中で、半溶融状態にしつつ、このガスにより前記アンダーコート上に輸送して付着させ、ターゲット材となるセラミックス層を形成するスパッタリングターゲットの製造方法において、アンダーコートとしては、セラミックス層の熱膨張係数と金属基体の熱膨張係数との中間の熱膨張係数を有する層および/またはセラミックス層の熱膨張係数に近い熱膨張係数を有する層を形成し、セラミックス層としては、TiO<SB>x</SB> (1<x<2)を主成分とする層を形成することを特徴とするスパッタリングターゲットの製造方法。
IPC (4件)：
C23C 14/34
, C23C 4/10
, C23C 4/18
, C23C 14/08
