特許
J-GLOBAL ID：200903064760880730

セラミックス回転カソードターゲットおよびその製造方法

発明者：
木田 音次郎

木田 音次郎 について

, 
林 篤

林 篤 について


出願人/特許権者：
旭硝子株式会社

旭硝子株式会社 について


代理人 (1件)： 泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-250543
公開番号（公開出願番号）：特開平5-214525
出願日： 1992年08月26日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：
【要約】【構成】円筒状ターゲットホルダーの外表面を荒し、その上に、後で形成するセラミックス層と前記ターゲットホルダーとの中間の熱膨張係数を有する金属または合金からなる層と、セラミックス層に近似した熱膨張係数を有する金属または合金からなる層のうち少なくとも1層をアンダーコートとして形成し、次いで、セラミックス粉末をプラズマ溶射して、スパッタすべきターゲットとなるセラミックス層を形成する。【効果】透明で優れた耐久性を有する非晶質酸化物膜を、大面積基板に低温高速成膜でき、また、使用効率の高い回転カソードターゲットが得られる。
請求項（抜粋）：
円筒状ターゲットホルダーの外表面に、スパッタすべきターゲットとなるセラミックス層を形成するセラミックス回転カソードターゲットの製造方法において、円筒状ターゲットホルダーの外表面を荒面加工した後、その外表面上に、前記セラミックス層の熱膨張係数と前記ターゲットホルダーの熱膨張係数との中間の熱膨張係数を有する金属または合金からなる層、または、前記セラミックス層の熱膨張係数に近似した熱膨張係数を有する金属または合金からなる層、のいずれか1層または少なくともこれら2層をアンダーコートとして形成し、次いで、セラミックス粉末を高温ガス中で半溶融状態にしつつこのガスにより前記アンダーコート上に輸送して付着させ、前記セラミックス層を形成することを特徴とするセラミックス回転カソードターゲットの製造方法。
IPC (2件)：
C23C 14/34 ,  C23C 4/04
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (16件)
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