特許
J-GLOBAL ID：200903024782987358

走査型露光装置および露光方法

発明者：
横田 宗泰

横田 宗泰 について

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武藤 貴和

武藤 貴和 について

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篠崎 忠明

篠崎 忠明 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 前田 均 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-046203
公開番号（公開出願番号）：特開平11-231549
出願日： 1998年02月12日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：
【要約】【課題】 大面積の露光が可能でありながら、スループットが高く、しかも走査時の位置制御が比較的容易であり、軽量化および小型化が可能な走査型露光装置および露光方法を提供すること。【解決手段】 露光すべきパターンが形成されたマスクMを照明する照明光学系4と、前記マスクMを通しての照明光に基づき、前記マスクMに形成してあるパターンを転写すべき感光性基板Sの表面に、Y方向に所定ピッチ間隔で分離した複数の露光領域38a〜38cを形成する投影光学系8と、前記マスクMおよび感光性基板Sを固定した状態で、前記照明光学系4および前記投影光学系8を同期して、前記Y方向と実質的に直交するX方向に移動させるX方向走査移動機構50と、前記マスクMおよび感光性基板Sを、前記照明光学系4および前記投影光学系8に対して、前記Y方向に沿って分離した各露光領域38a〜38cの基準幅bに応じた距離で前記Y方向に沿って相対的に移動させるY方向シフト移動機構52a,52bとを有する。
請求項（抜粋）：
露光すべきパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系と、前記マスクを通しての照明光に基づき、前記マスクに形成してあるパターンを転写すべき感光性基板の表面に、第1方向に所定ピッチ間隔で分離した複数の露光領域を形成する投影光学系と、前記マスクおよび感光性基板を固定した状態で、前記照明光学系および前記投影光学系を同期して、前記第1方向と実質的に直交する第2方向に移動させる第1移動機構と、前記マスクおよび感光性基板と、前記照明光学系および前記投影光学系とを、前記第1方向に沿って分離した各露光領域の基準幅に応じた距離で前記第1方向に沿って相対的に移動させる第2移動機構とを有する走査型露光装置。
IPC (2件)：
G03F 7/22 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 518
引用特許：
審査官引用 (4件)
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