搬送装置及び真空処理システム

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-351364
公開番号（公開出願番号）：特開2000-177842
出願日： 1998年12月10日
公開日（公表日）： 2000年06月27日
要約：

【要約】【課題】真空処理システムにおいて、トレイホルダを使用することなく被処理基板を移動できる搬送装置を提供する。【解決手段】搬送装置20は、システム内を走行するための台車21と、2枚のガラス基板S1、S2を同時に支持するため、台車21上に配設された支持機構22と、を有する。支持機構22は、搬送方向D1に沿った台車21の中心軸を挟んで、2枚の基板S1、S2が垂線に対して約10°の角度θ1で互いに反対側に傾斜するように、2枚の基板S1、S2を支持する。支持機構22は、各基板S1、S2の重心より上でその裏面を接触支持する部分を有する。基板S1、S2は、自重により安定した状態で支持機構22上に保持される。

請求項（抜粋）：

多角形板状の被処理基板を処理するための真空処理システム内において前記被処理基板を搬送するための搬送装置であって、前記システム内を走行するための台車と、前記被処理基板を支持するため、前記台車上に配設された支持機構と、を具備し、前記支持機構は、前記被処理基板が垂線に対して7°乃至12°の角度で傾斜するように、前記被処理基板を支持することと、前記支持機構は、前記被処理基板の底端面に接触するための底接触面と、前記被処理基板の裏面に接触するための第1及び第2裏接触面とを有することと、前記第1及び第2裏接触面は、前記被処理基板の搬送方向において互いに独立した第1及び第2支柱に支持された第1及び第2パッド上に夫々形成されることと、前記第1及び第2裏接触面は、前記搬送方向における前記被処理基板の両端部に沿って夫々配置されることと、前記第1及び第2裏接触面は、前記被処理基板の重心より上で前記被処理基板の前記裏面と接触する部分を夫々有することと、を特徴とする搬送装置。

IPC (4件)：

B65G 49/06 , B01J 3/02 , H01L 21/205 , H01L 21/68

FI (4件)：

B65G 49/06 Z , B01J 3/02 N , H01L 21/205 , H01L 21/68 A

Fターム (15件)：

5F031CA05 , 5F031DA01 , 5F031FA09 , 5F031GA58 , 5F031MA29 , 5F031NA05 , 5F045AA08 , 5F045AF07 , 5F045BB14 , 5F045DP21 , 5F045DQ15 , 5F045EB08 , 5F045EM01 , 5F045EN04 , 5F045HA24

引用特許：

審査官引用 (5件)

成膜装置の基板搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-279497 出願人：三菱重工業株式会社
多チャンバ型半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-241262 出願人：株式会社日立製作所
ガラス基板の搬送台車
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-253055 出願人：三菱重工業株式会社

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