特許
J-GLOBAL ID:200903024817784030

導体パターン形成用インク、導体パターン、および配線基板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 増田 達哉 ,  朝比 一夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-320244
公開番号(公開出願番号):特開2009-146624
出願日: 2007年12月11日
公開日(公表日): 2009年07月02日
要約:
【課題】液滴の吐出安定性に優れ、信頼性の高い導体パターンを形成することができる導体パターン形成用インクを提供すること、信頼性の高い導体パターンを提供すること、および、前記導体パターンを備え、信頼性の高い配線基板を提供すること。【解決手段】本発明の導体パターン形成用インクは、液滴吐出法により、セラミックス粒子とバインダーとを含む材料で構成されたセラミックス成形体へ付与され、導体パターンを形成するための導体パターン形成用インクであって、水系分散媒と、水系分散媒に分散した金属粒子とを含み、ガスクロマトグラフィー法によって測定される導体パターン形成用インク中の酸素と窒素との合計の含有量が12ppm以下であることを特徴とする特徴とする。【選択図】なし
請求項(抜粋):
液滴吐出法により、セラミックス粒子とバインダーとを含む材料で構成されたセラミックス成形体へ付与され、導体パターンを形成するための導体パターン形成用インクであって、 水系分散媒と、水系分散媒に分散した金属粒子とを含み、 ガスクロマトグラフィー法によって測定される導体パターン形成用インク中の酸素と窒素との合計の含有量が12ppm以下であることを特徴とする導体パターン形成用インク。
IPC (5件):
H01B 1/22 ,  C09D 11/02 ,  H05K 3/10 ,  B41M 5/00 ,  H01B 5/14
FI (5件):
H01B1/22 Z ,  C09D11/02 ,  H05K3/10 D ,  B41M5/00 E ,  H01B5/14 B
Fターム (48件):
2H186AA17 ,  2H186AB01 ,  2H186AB05 ,  2H186AB06 ,  2H186AB08 ,  2H186AB12 ,  2H186AB23 ,  2H186BB16X ,  2H186BC06X ,  2H186BC23X ,  2H186BC30X ,  2H186BC33X ,  2H186BC73X ,  2H186BC76X ,  2H186DA09 ,  2H186FA18 ,  2H186FB07 ,  2H186FB11 ,  2H186FB25 ,  2H186FB29 ,  2H186FB56 ,  4J039AE07 ,  4J039BA06 ,  4J039BC09 ,  4J039BE22 ,  4J039CA06 ,  4J039EA24 ,  4J039FA06 ,  4J039GA24 ,  5E343AA02 ,  5E343AA23 ,  5E343BB25 ,  5E343BB72 ,  5E343DD12 ,  5E343FF05 ,  5E343GG11 ,  5E343GG20 ,  5G301DA02 ,  5G301DA03 ,  5G301DA05 ,  5G301DA06 ,  5G301DA11 ,  5G301DA12 ,  5G301DA33 ,  5G301DA42 ,  5G301DA60 ,  5G301DD02 ,  5G301DE01
引用特許:
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (12件)
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