特許
J-GLOBAL ID：200903024866303942
極端紫外光源及び極端紫外光源用ターゲット
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 良平
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2003016947
公開番号（公開出願番号）：WO2004-086467
出願日： 2003年12月26日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
本発明は、高い発光効率で極端紫外光を発光することができる極端紫外光源用ターゲットを提供することを目的として成されたものである。このような目的は、次のようにして達成される。重金属又は重金属化合物から成り、その密度が結晶密度の0.5%〜80%である固体のターゲットを用いる。このターゲットにレーザ光を照射すると、ターゲットが含有する重金属のプラズマが生成され、その重金属の種類に応じた所定の波長の極端紫外光がこのプラズマから放射される。ターゲットの密度を前記のように結晶密度よりも小さくすることにより、生成されるプラズマ密度の空間分布を制御し、プラズマがレーザ光のエネルギーを吸収する領域とプラズマが極端紫外光を発光する領域を一致させることができる。これにより、エネルギーの損失を抑えて発光効率を向上させることができる。例えば密度が結晶密度の24%であるSnO2ターゲットを用いる方が、Sn結晶のターゲットを用いるよりも波長13.5nm付近の発光効率が高い。
請求項（抜粋）：
密度を調整することによりレーザ吸収領域と極端紫外光発光領域を空間的に接近させたことを特徴とする極端紫外光源用ターゲット。
IPC (4件)：
G21K 5/08
, G03F 7/20
, G21K 5/02
, H01L 21/027
G21K5/08 X
, G03F7/20 521
, G21K5/02 X
, H01L21/30 531S
