特許

J-GLOBAL ID：200903024941390562

無機配向膜の形成方法、無機配向膜、電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器

発明者： 太田 英伸
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (2件)： 増田 達哉 ,  朝比 一夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-311942
公開番号（公開出願番号）：特開2005-078034
出願日： 2003年09月03日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：

【課題】均一な膜厚の無機配向膜をより簡便に形成する方法、かかる方法により形成された無機配向膜、電子デバイス用基板、信頼性の高い液晶パネルおよび電子機器を提供する。【解決手段】基材100上に、主として無機酸化物で構成される無機配向膜3Aを形成する無機配向膜の形成方法であり、基材上に、無機酸化物前駆体と界面活性剤とを含む溶液を塗布して、塗膜を形成する第1の工程と、この塗膜を焼成することにより、無機酸化物前駆体を無機酸化物に変化させて、無機配向膜を得る第2の工程とを有することを特徴とする。かかる方法では、溶液の組成、濃度、成膜条件、焼成条件等を適宜設定し、無機配向膜を複数の細孔30を有する構造(多孔質構造)とするのが好ましい。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基材上に、主として無機酸化物で構成される無機配向膜を形成する無機配向膜の形成方法であって、 前記基材上に、無機酸化物前駆体と界面活性剤とを含む溶液を塗布して、塗膜を形成する第1の工程と、 前記塗膜を焼成することにより、前記無機酸化物前駆体を前記無機酸化物に変化させて、前記無機配向膜を得る第2の工程とを有することを特徴とする無機配向膜の形成方法。

IPC (3件)：

G02F1/1337 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333

FI (3件)：

G02F1/1337 515 ,  G02F1/13 505 ,  G02F1/1333 500

Fターム (19件)：

2H088EA15 ,  2H088FA10 ,  2H088HA03 ,  2H088HA08 ,  2H088HA12 ,  2H088HA13 ,  2H088HA14 ,  2H088HA23 ,  2H088HA24 ,  2H088HA25 ,  2H088HA28 ,  2H088MA18 ,  2H090HA14 ,  2H090HB03Y ,  2H090HB17Y ,  2H090HC05 ,  2H090HC15 ,  2H090HD14 ,  2H090MA01

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 液晶配向膜およびこれを用いた液晶表示素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-319574   出願人：日本電気株式会社
• 液晶装置の製造方法、及び蒸着基板の製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-383027   出願人：セイコーエプソン株式会社