高純度合成石英粉の製造方法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：本多一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-375206
公開番号（公開出願番号）：特開2001-192223
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
要約：

【要約】【課題】低コストな水ガラスを原料としても、高純度で極めてチタン含量の少ない合成石英粉を得ることのできる高純度合成石英粉の製造方法を提供する。【解決手段】水ガラスを脱アルカリ処理してシリカ水溶液を得る第1工程と、第1工程で得られたシリカ水溶液に酸化剤と酸とを加えた後、水素型陽イオン交換樹脂に通す第2工程と、第2工程で得られたシリカ水溶液をゲル化させシリカ粒子を得る第3工程と、ゲル化したシリカを洗浄する第4工程と、洗浄したシリカを焼成する第5工程と、を包含する。

請求項（抜粋）：

水ガラスを脱アルカリ処理してシリカ水溶液を得る第1工程と、第1工程で得られたシリカ水溶液に酸化剤と酸とを加えた後、水素型陽イオン交換樹脂に通す第2工程と、第2工程で得られたシリカ水溶液をゲル化させシリカ粒子を得る第3工程と、ゲル化したシリカを洗浄する第4工程と、洗浄したシリカを焼成する第5工程と、を包含することを特徴とする高純度合成石英粉の製造方法。

IPC (2件)：

C03B 20/00 , C01B 33/18

FI (2件)：

C03B 20/00 D , C01B 33/18 D

Fターム (15件)：

4G014AH02 , 4G072AA30 , 4G072BB05 , 4G072GG01 , 4G072GG03 , 4G072HH21 , 4G072KK01 , 4G072MM14 , 4G072MM23 , 4G072MM36 , 4G072PP03 , 4G072PP17 , 4G072RR05 , 4G072TT19 , 4G072UU01

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開平3-174315
特開昭63-021212
高純度シリカの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-235374 出願人：日本化学工業株式会社

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審査官引用 (6件)

特開平3-174315
特開平3-174315
特開昭63-021212

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