磁気ディスク基板研磨用組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢口平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-224962
公開番号（公開出願番号）：特開平10-121035
出願日： 1997年08月21日
公開日（公表日）： 1998年05月12日
要約：

【要約】【課題】表面粗さが小さく、かつ研磨傷の殆どない研磨面が得られ、しかも高速研磨が可能であり、高密度記録が可能な磁気ディスクを得るのに適した研磨用組成物を提供する。【解決手段】水、酸化チタニウムおよび研磨促進剤を含んでなる組成物であって、研磨促進剤としてアルミニウム塩が好ましい磁気ディスク基板研磨用組成物。

請求項（抜粋）：

水、酸化チタニウム微粒子、研磨促進剤からなる磁気ディスク基板研磨用組成物。

IPC (4件)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14 , B24B 37/00 , G11B 5/84

FI (4件)：

C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 Z , B24B 37/00 H , G11B 5/84 A

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平1-246069
特開平3-076782
特開昭63-251163

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