薄膜評価装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：坂上正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-306055
公開番号（公開出願番号）：特開2004-132939
出願日： 2002年10月21日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：

【課題】不透明薄膜の膜厚測定において、マイクロメートル程度以下の薄膜に対する膜厚測定を高精度で行う装置を提供することを目的とする。【解決手段】共振法で利用するレーザー励起光として、波長の異なる2個のレーザー光を干渉させて作ったビート光を利用する。これにより、非常に高い周波数で強度変化する励起光を用意し、マイクロメートル以下の薄膜測定にも対応する。共振法の利用により、繰り返されるエコー間隔の情報を有効に活用する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

薄膜中に超音波を発生させ、前記超音波の振動数に対する表面振動振幅の依存性を測定する装置であって、複数の連続レーザーと、検出器と、前記複数の連続レーザーを試料表面または検出器に導く光学回路とからなり、前記複数の連続レーザーの中から超音波励起用のビート光の元となる2個のビート発生光(周波数:f1、f2)用レーザーを選択する手段と、前記複数の連続レーザーの中からプローブ光(周波数:fp)用の1個のレーザーを選択する手段と、前記複数の連続レーザーの中から干渉測定の基準光(周波数:fr)用のレーザーを選択する手段とを備えた薄膜評価装置。

IPC (2件)：

G01N29/00 , G01N21/00

FI (2件)：

G01N29/00 501 , G01N21/00 A

Fターム (28件)：

2G047AB00 , 2G047BC18 , 2G047CA04 , 2G047EA04 , 2G047GD01 , 2G059AA05 , 2G059BB10 , 2G059EE02 , 2G059EE05 , 2G059EE09 , 2G059EE16 , 2G059FF08 , 2G059FF09 , 2G059GG01 , 2G059GG03 , 2G059GG04 , 2G059GG05 , 2G059GG06 , 2G059JJ11 , 2G059JJ13 , 2G059JJ18 , 2G059JJ19 , 2G059JJ20 , 2G059JJ22 , 2G059KK01 , 2G059LL01 , 2G059MM01 , 2G059MM03

引用特許：

審査官引用 (5件)

光熱変位計測による試料評価方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-003721 出願人：株式会社神戸製鋼所
特許第2717600号
特開平1-190013

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