ポジ型フォトレジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-240600
公開番号（公開出願番号）：特開2000-231194
出願日： 1999年08月26日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：

【要約】【課題】遠紫外光、とくにKrF又はArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、高い感度を有し、現像残さが少なく、疎密依存性が優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び一般式(I) -SO2-O-Rで表される基を含む繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び一般式(I)-SO2-O-R(ここでRは、置換基を有していてもよい、アルキル基、環状アルキル基又はアルケニル基を表す。)で表される基を含む繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/039 601 , C08F 12/30 , C08F 20/38 , C08F 20/56 , G03F 7/004 503 , G03F 7/027 , H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/039 601 , C08F 12/30 , C08F 20/38 , C08F 20/56 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/027 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

平版印刷版用原版
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-010755 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-024011 出願人：富士写真フイルム株式会社
特開平4-149445

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