特許

J-GLOBAL ID：200903025087441138

微細構造体の製造方法

発明者： 石田 方哉 ,  古沢 昌宏
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-098158
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284289
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：

【要約】【課題】 ミクロンオーダーの精度を有し、尚且つ、簡便な工程で良質な機能性薄膜を形成するパターンニング手段を提供する。【解決手段】 基板表面に有機分子膜(14)を用いて、親液部と撥液部とを所定のパターンに形成するとともに、スピンコート法により前記基板上の親液部に選択的に機能性薄膜(13)を形成する。

請求項（抜粋）：

機能性薄膜を備えた微細構造体の製造方法であって、基板表面に有機分子膜を用いて、親液部と撥液部とを所定のパターンに形成する工程と、スピンコート法により前記基板上の親液部に選択的に機能性薄膜を形成する工程とを有する微細構造体の製造方法。

IPC (8件)：

H01L 21/288 ,  B05D 1/40 ,  B05D 7/04 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/28 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/3205 ,  H01L 29/06

FI (8件)：

H01L 21/288 Z ,  B05D 1/40 A ,  B05D 7/04 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/28 A ,  H01L 21/316 G ,  H01L 29/06 ,  H01L 21/88 B

Fターム (41件)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096AA30 ,  2H096BA20 ,  2H096CA14 ,  2H096FA01 ,  2H096GA60 ,  4D075AC64 ,  4D075AC94 ,  4D075AD16 ,  4D075AE03 ,  4D075BB23Z ,  4D075CA36 ,  4D075CA37 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB31 ,  4D075DC21 ,  4M104AA10 ,  4M104BB36 ,  4M104DD22 ,  4M104DD51 ,  4M104DD62 ,  4M104HH14 ,  5F033GG04 ,  5F033HH38 ,  5F033PP26 ,  5F033QQ01 ,  5F033QQ91 ,  5F033WW00 ,  5F058AA03 ,  5F058AA06 ,  5F058AC03 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058BA06 ,  5F058BC05 ,  5F058BF46 ,  5F058BH01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• パターン形成体およびパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-165392   出願人：大日本印刷株式会社
• 特開平4-326719
  
• 金属パターンの形成方法及び金属配線パターンを有する半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-118120   出願人：ソニー株式会社