特許
J-GLOBAL ID:200903025122538905
オーミック電極及びその製造方法、半導体デバイス、並びに光電子集積回路
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-320461
公開番号(公開出願番号):特開平9-017993
出願日: 1995年12月08日
公開日(公表日): 1997年01月17日
要約:
【要約】【課題】 InGaAsを主成分とした化合物半導体上に形成された信頼性の高いオーミック電極を提供する。【解決手段】 本願に係るオーミック電極(5)は、InGaAsを主成分とする化合物半導体(2)上にPt層(3)を蒸着し、次いで、このPt層の上に適当な金属層(4)を形成することにより、製造することができる。このオーミック電極は、InGaAsを主成分とする化合物半導体(2)にPt層(3)が接触したオーミックコンタクトを備えているので、このオーミックコンタクトの優れた特性に基づき、高い信頼性を有する。
請求項(抜粋):
p型のInGaAsを主成分とする化合物半導体上に接触する厚さ約400オングストローム以下のPt層を備えることを特徴とするオーミック電極。
IPC (6件):
H01L 29/43
, H01L 21/28 301
, H01L 21/28
, H01L 27/14
, H01L 31/10
, H01L 27/15
FI (7件):
H01L 29/46 H
, H01L 21/28 301 H
, H01L 21/28 301 R
, H01L 27/15 D
, H01L 27/14 Z
, H01L 29/46 R
, H01L 31/10 H
引用特許:
審査官引用 (3件)
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-258224
出願人:エヌ・ベー・フィリップス・フルーイランペンファブリケン
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特開昭61-012070
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オーミック電極
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-215757
出願人:日本電気株式会社
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