特許
J-GLOBAL ID：200903025145596210

排水処理装置及び排水処理方法

発明者：
本藤 和臣

本藤 和臣 について


出願人/特許権者：
住友重機械エンバイロメント株式会社

住友重機械エンバイロメント株式会社 について


代理人 (1件)： 羽片 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-122364
公開番号（公開出願番号）：特開2007-289891
出願日： 2006年04月26日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：
【課題】曝気槽内を高い活性汚泥濃度に維持することができる排水処理装置及び方法を提供する。【解決手段】排水処理装置は、担体が投入され被処理水を処理する曝気槽と、曝気槽に設けられ剛性を有する散気筒11とを備えている。この散気筒11は、その外表面に弾性を有する散気膜12が設けられており、当該散気膜12を介して被処理水中に微細な気泡を散気して曝気する。このように、弾性を有する散気膜12が剛性を有する散気筒11の外表面に設けられているため、担体は、散気膜12を介して散気筒11に接触することになり、よって、担体の磨耗や損傷を散気膜12の弾性でもって抑止させることができ、曝気槽内に多量の微生物を保持させることが可能となる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
微生物固定化担体が投入され、被処理水を処理する曝気槽と、 前記曝気槽内に設けられ、剛性を有する散気筒と、 前記散気筒の外表面に設けられ、弾性を有する散気膜と、を備え、 前記散気筒は、前記散気膜を介して前記被処理水を曝気することを特徴とする排水処理装置。
IPC (4件)：
C02F 3/20 ,  C02F 3/08 ,  B01F 1/00 ,  C02F 3/34
FI (4件)：
C02F3/20 D ,  C02F3/08 B ,  B01F1/00 A ,  C02F3/34 101B
Fターム (21件)：
4D003AA12 ,  4D003AB04 ,  4D003BA02 ,  4D003CA08 ,  4D003DA11 ,  4D003DA19 ,  4D003DA30 ,  4D003EA15 ,  4D003EA26 ,  4D003EA28 ,  4D029AA01 ,  4D029AB07 ,  4D029DD03 ,  4D040BB02 ,  4D040BB42 ,  4D040BB52 ,  4D040BB82 ,  4G035AA01 ,  4G035AB07 ,  4G035AC26 ,  4G035AE17
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 旋回流曝気装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-105926   出願人：日立プラント建設株式会社
審査官引用 (9件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM