特許
J-GLOBAL ID：200903025152343467
液晶表示装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-134191
公開番号（公開出願番号）：特開平9-297320
出願日： 1996年05月02日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：
【要約】【課題】 液晶表示装置の生産性を向上させることができるようにする。【解決手段】 ガラス基板31の上面にゲート電極34およびゲート端子35をパターン形成し、これらゲート電極34およびゲート端子35を含むガラス基板31の上面に透明導電層36を成膜し、この透明導電層36の上面にレジストパターン37を形成し、このレジストパターン37をマスクとして透明導電層36をエッチングすることにより画素電極38および陽極酸化防止層39を形成し、これら画素電極38および陽極酸化防止層39をマスクとしてゲート電極34およびゲート端子35の周囲を陽極酸化する。この場合、画素電極38の形成工程と陽極酸化膜の形成工程とを従来は別々のフォトリソグラフィ工程で行なっていたものを同一のフォトリソグラフィ工程で行なうことができ、フォトリソグラフィ工程を従来よりも1回少なくすることができ、生産性を向上させることができる。
請求項（抜粋）：
基板上に配線パターンを形成し、この配線パターンを含む前記基板上に導電層を形成し、この導電層上にレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとして前記導電層をエッチングすることにより画素電極および陽極酸化防止層を形成し、前記陽極酸化防止層あるいは前記レジストパターンをマスクとして前記配線パターンを陽極酸化することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
IPC (3件)：
G02F 1/136 500
, H01L 29/786
, H01L 21/336
G02F 1/136 500
, H01L 29/78 612 C
, H01L 29/78 617 W
