光走査装置、画像形成方法及び画像形成装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：鈴木誠 , 大浦一仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-047077
公開番号（公開出願番号）：特開2005-234510
出願日： 2004年02月23日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：

【課題】画像形成装置において、副走査方向の画素ずれの高精度な補正を可能にする光走査装置を実現する。【解決手段】面発光レーザ1上の複数の光源2からの光ビームは被走査面上の隣接した走査線を走査するために用いられる。隣接した2本の走査線に対応する2個の光源を1組とし、1組の光源のうちの一方を主光源、もう一方を副光源とし、1組の光源の総光量を変えることなく、かつ、副光源の光量を主光源の光量を越えさせることなく、主光源と副光源の間の光量比率を変化させることにより、1組の光源からの光ビームの被走査面上における副走査方向の光量分布を変化させることにより、副走査方向の画素ずれを高精度に補正することができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

被走査面の走査のための光ビームを発生する複数の光源と、それらを駆動する光源駆動手段とを有し、光源駆動手段は、被走査面上の隣接した2本の走査線に対応する2個の光源を1組とし、1組の光源のうちの一方を主光源、もう一方を副光源とし、1組の光源の総光量を変えることなく、かつ、副光源の光量を主光源の光量を越えさせることなく、主光源と副光源の間の光量比率を変化させることにより、1組の光源より発生する光ビームの被走査面上における副走査方向の光量分布を制御することを特徴とする特徴とする光走査装置。

IPC (4件)：

G02B26/10 , B41J2/44 , H04N1/04 , H04N1/113

FI (4件)：

G02B26/10 B , B41J3/00 M , H04N1/04 104A , H04N1/04 D

Fターム (22件)：

2C362AA03 , 2C362AA13 , 2C362BB46 , 2C362CA02 , 2C362CA09 , 2C362CB04 , 2C362CB14 , 2H045AA59 , 2H045BA23 , 2H045BA33 , 2H045CA92 , 5C072AA03 , 5C072BA04 , 5C072BA19 , 5C072HA02 , 5C072HA06 , 5C072HA13 , 5C072HB04 , 5C072QA14 , 5C072QA17 , 5C072XA01 , 5C072XA05

引用特許：

出願人引用 (8件)

光走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-085242 出願人：富士ゼロックス株式会社
画像形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-262572 出願人：キヤノン株式会社
マルチビーム走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-148984 出願人：株式会社リコー

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審査官引用 (5件)

ラスター走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-229879 出願人：ゼロックスコーポレイション
スキャナ
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-068346 出願人：ゼロックスコーポレイション
特開昭62-207062

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