特許
J-GLOBAL ID：200903025195989336

放電ガス処理方法およびその装置

発明者：
桑原 拓哉

桑原 拓哉 について

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内藤 健太

内藤 健太 について

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芝野 均

芝野 均 について

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川北 有

川北 有 について

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加藤 茂

加藤 茂 について


出願人/特許権者：
日新電機株式会社

日新電機株式会社 について


代理人 (1件)： 山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-292427
公開番号（公開出願番号）：特開2001-113118
出願日： 1999年10月14日
公開日（公表日）： 2001年04月24日
要約：
【要約】【課題】 パルスコロナ放電を利用して被処理ガスを処理する技術において、消費電力を低減する。【解決手段】 この放電ガス処理方法は、同軸円筒状の外部電極(非コロナ電極)4と内部電極(コロナ電極)6とを有する放電処理部2の放電空間8に被処理ガス12を導入し、この放電処理部2の両電極4、6間にパルス電源14からパルス電圧VP を繰り返し印加して放電空間8内の被処理ガス12中でパルスコロナ放電10を発生させて被処理ガス12を処理するものである。その際、パルス電圧VP の1パルス当たりに放電空間8の被処理ガス12中に投入される電気エネルギー密度を、10〜150J/Nm3 に、より好ましくは10〜50J/Nm3 にする。
請求項（抜粋）：
相対向するコロナ電極と非コロナ電極との間に形成される放電空間に被処理ガスを導入し、この両電極間にパルス電圧を繰り返し印加して前記放電空間内の被処理ガス中でパルスコロナ放電を発生させて当該被処理ガスを処理する方法において、前記パルス電圧の1パルス当たりに前記放電空間の被処理ガス中に投入される電気エネルギー密度を10〜150J/Nm3 にすることを特徴とする放電ガス処理方法。
IPC (2件)：
B01D 53/32 ,  B01D 53/34 ZAB
FI (2件)：
B01D 53/32 ,  B01D 53/34 ZAB Z
Fターム (14件)：
4D002AA02 ,  4D002AA03 ,  4D002AA12 ,  4D002AA13 ,  4D002AB02 ,  4D002AC10 ,  4D002BA05 ,  4D002BA07 ,  4D002CA20 ,  4D002DA51 ,  4D002GA01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB08 ,  4D002GB20
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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