特許
J-GLOBAL ID：200903025268164640
転写フィルムおよび無機パターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-120320
公開番号（公開出願番号）：特開2007-290227
出願日： 2006年04月25日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：
【課題】 無機薄膜パターンの形成に好適に用いられる転写フィルムと、当該転写フィルムを用いた、表面平滑性の高い無機パターンが得られ、従来の製造方法に比べて、実質的に作業性を向上することができる製造効率の優れた無機パターンの製造方法を提供すること。【解決手段】 粘着樹脂層、無機蒸着層およびレジスト層を有する積層膜が支持フィルム上に形成されている転写フィルムと、当該転写フィルムを用いた無機パターンの形成方法を提供する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
粘着樹脂層、無機蒸着層およびレジスト層を有する積層膜が支持フィルム上に形成されていることを特徴とする、転写フィルム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (33件)：
4F100AA01B
, 4F100AA19
, 4F100AK01A
, 4F100AK01D
, 4F100AK25A
, 4F100AK25C
, 4F100AK42
, 4F100BA04
, 4F100BA10A
, 4F100BA10D
, 4F100EH66B
, 4F100GB43
, 4F100GB90
, 4F100JB08
, 4F100JL02
, 4F100JL13A
, 5E339AA01
, 5E339AB05
, 5E339AD01
, 5E339BC10
, 5E339BD03
, 5E339BD07
, 5E339BD11
, 5E339BE13
, 5E339CC01
, 5E339CC02
, 5E339CD01
, 5E339CE11
, 5E339CF16
, 5E339CF17
, 5E339CG04
, 5E339DD04
, 5E339EE05
