抗菌性低刺激化粧料

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：竹井増美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-090483
公開番号（公開出願番号）：特開平9-255517
出願日： 1996年03月19日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：

【要約】【課題】有効な抗菌作用を示し、且つ皮膚に対し一次刺激性や感作性を示さないだけでなく、化粧料使用時の刺すような痛みやヒリヒリ感,チクチク感といった不快感をも与えない化粧料を得る。【解決手段】 2-フェノキシエタノールと、イチョウ,クマザサ,ウスバサイシン等をはじめとする、抗菌活性を有する植物の抽出物より選んだ1種又は2種以上とを含有して成る。2-フェノキシエタノール及び植物抽出物の配合量は、それぞれ0.05〜1.0重量%、0.01〜20.0重量%が適当である。植物抽出物との併用により抗菌活性が相乗的に増強されるので、2-フェノキシエタノール0.2重量%程度の配合で十分な抗菌作用を発揮させることができ、皮膚に対する刺激性や使用時の不快感を緩和することができる。

請求項（抜粋）：

2-フェノキシタノールと、抗菌作用を有する植物抽出物の1種又は2種以上を含有することを特徴とする、抗菌性低刺激化粧料。

IPC (5件)：

A61K 7/00 , A61K 7/02 , A61K 7/031 , A61K 7/032 , A61K 7/48

FI (7件)：

A61K 7/00 C , A61K 7/00 K , A61K 7/00 W , A61K 7/02 Z , A61K 7/031 , A61K 7/032 , A61K 7/48

引用特許：

審査官引用 (8件)

抗菌性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-126358 出願人：鈴木正人
紫外線吸収性皮膚化粧料
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-284017 出願人：株式会社資生堂, 日本新薬株式会社
紫外線防止化粧品組成物及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-319297 出願人：東海産業株式会社

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