特許

J-GLOBAL ID：200903025366492664

重合性モノマー及びその製造方法

発明者： 中村 雅 ,  百瀬 陽 ,  加藤 修
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-352136
公開番号（公開出願番号）：特開2008-115148
出願日： 2006年12月27日
公開日（公表日）： 2008年05月22日
要約：

【課題】レジストのラインエッジラフネスの改善に寄与するための親水性基含有ナフチル基骨格を持ち、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸エステル等の重合性モノマーと共重合させた場合に共重合性が良好で、組成が均一であり、波長193nmの光線透過率が高い重合体を得ることができる重合性モノマー及びその製造方法を提供する。【解決手段】特定のナフタレン骨格を有する重合性モノマー及び特定のモノマーを特定の条件下で反応させる重合性モノマーの製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表されるナフタレン骨格を有する重合性モノマー。

IPC (5件)：

C07C 69/54 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07C 67/10 ,  C07C 69/96

FI (5件)：

C07C69/54 Z ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C07C67/10 ,  C07C69/96 Z

Fターム (41件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BF03 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA03 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB46 ,  4H006AB76 ,  4J100AG08R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA02R ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA08R ,  4J100BA11Q ,  4J100BA16R ,  4J100BA22R ,  4J100BC04R ,  4J100BC08R ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC49R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA37

引用特許：

出願人引用 (3件)

• レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-130131   出願人：富士通株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-012406   出願人：住友化学工業株式会社
• 新規樹脂およびそれを含有するフォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-154310   出願人：シップレーカンパニーエルエルシー