特許
J-GLOBAL ID：200903031080779575
新規樹脂およびそれを含有するフォトレジスト組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
千田 稔
, 辻永 和徳
, 橋本 幸治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-154310
公開番号（公開出願番号）：特開2004-163877
出願日： 2003年05月30日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：
【課題】高解像サブハーフミクロンおよびサブクオーターミクロンの形成に有効な高性能のポジおよびネガレジスト用組成物を提供する。【解決手段】メルカプト又はオキシなどのヘテロ置換基を有する、縮合芳香環を有する炭素環式アリール単位と、酸脱離性保護基を有する(メタ)アクリル酸系モノマー単位とを含有している新規な樹脂およびかかる樹脂を含有するフォトレジストを提供する。本発明の特に好ましいフォトレジストは、ビニルナフトールの如きヒドロキシナフチル単位を含有する、酸で脱保護される樹脂からなり、193nm放射線のような200nm以下の放射線を用いて効果的にイメージ形成することができる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
フォトレジストレリーフイメージの作成方法であって、
a)フォトレジスト組成物の被覆層を基体表面に適用し、前記フォトレジスト組成物は光活性成分と、ヘテロ置換炭素環式アリール基を有する樹脂とを含有するものであり、
b)得られたフォトレジスト組成物層を200nm未満の波長をもつ活性化放射線に露光させ、露光したフォトレジスト組成物被覆層を現像する
ことを含むフォトレジストレリーフイメージの作成方法。
IPC (4件)：
G03F7/033
, G03F7/038
, G03F7/039
, H01L21/027
G03F7/033
, G03F7/038 601
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AA09
, 2H025AA14
, 2H025AB16
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CC17
