処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金本哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-114157
公開番号（公開出願番号）：特開平11-297789
出願日： 1998年04月09日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：

【要約】【課題】基板を昇降ピンと共に速く下降させても基板の位置ずれが発生しない処理装置を提供する。【解決手段】ウェハWを支持した状態で昇降可能な昇降ピン45と,ウェハWを載置自在かつ加熱可能な載置台36を加熱処理装置25に備える。載置台36の中央部には排気口42が設けられている。昇降ピン45の上部側面には真空吸引口53が設けられている。ウェハWを昇降ピン45と共に下降させる際,ウェハWの下面と載置面50との間の雰囲気を排気口42と真空吸引口53から排気する。

請求項（抜粋）：

基板を載置する載置台と,この載置台の載置面から突出自在な昇降ピンとを備え,前記載置台に載置された基板に対して所定の処理を行う処理装置において,前記載置面には当該載置面の中央部から周縁部にかけて放射状の溝が形成されたことを特徴とする,処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/30 563 , H01L 21/30 567

引用特許：

審査官引用 (4件)

熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-019237 出願人：キヤノン株式会社, キヤノン販売株式会社
基板位置決め用吸着ピンユニット
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-146394 出願人：山形カシオ株式会社
基板熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-329888 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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