特許
J-GLOBAL ID：200903025462815636

レーザプラズマX線発生装置

発明者：
鵜養 剛

鵜養 剛 について


出願人/特許権者：
有限会社サイファー社

有限会社サイファー社 について


代理人 (1件)： 後藤 洋介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-058909
公開番号（公開出願番号）：特開2003-257698
出願日： 2002年03月05日
公開日（公表日）： 2003年09月12日
要約：
【要約】【課題】 パルスレーザ光の集光照射を受けて発散するクライオ材のガス放出量を大幅に縮減し、発生する物質を回収する排気手段の容量を大幅に縮小する。【解決手段】 回転体11の表面にクライオターゲット溝51、固定壁50にクライオターゲット溝51に対応した所定位置で圧集壁52および排気ノーズ53を固定して備える。回転する回転体11を極低温流体13で冷却し、回転体11の表面に冷却制御されたクライオターゲット材供給ノズル21からクライオ材を噴射して結晶微粒子状のクライオターゲット層22を生成する。圧集壁52は周辺のクライオ材を掻き集めてクライオターゲット溝51の位置にクライオターゲット帯を形成し、その中心にパルスレーザ光の集光照射点を置く。クライオターゲット帯は、その内部で発生したプラズマが回転体11基板の壁を損傷しない程度の寸法を有する。
請求項（抜粋）：
化学的に不活性で室温ではガス状であり冷却した際に液体化から固体化されるクライオターゲット材をガス状で、回転軸を有し当該回転軸を中心軸として回転しかつ熱伝導率のよい円筒形を有して極低温に冷却される回転体の表面に供給して付着させ、当該表面に所定の厚さに形成するクライオターゲット層をクライオターゲットとし、当該クライオターゲットに高尖頭パワーを有する繰り返しパルスレーザ光を集光照射して生じたプラズマからパルスX線を発生するレーザプラズマX線発生装置において、前記クライオターゲット層は、少なくとも前記パルスレーザ光を集光照射する際のスポットサイズの幅と少なくとも前記パルスレーザ光を集光照射した際に蒸散かつ飛散する前記クライオターゲット材に相当するだけの量を確保した厚さとを有し、前記回転体表面上に少なくとも一周を形成する環形状のクライオターゲット帯であることを特徴とするレーザプラズマX線発生装置。
IPC (5件)：
H05G 2/00 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 ,  G21K 5/08 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 X ,  G21K 5/08 X ,  H05G 1/00 K ,  H01L 21/30 531 S
Fターム (10件)：
2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097CA01 ,  2H097CA15 ,  4C092AA06 ,  4C092AB19 ,  4C092AC01 ,  4C092AC09 ,  4C092BD17 ,  5F046GC03
引用特許：
審査官引用 (5件)
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