特許
J-GLOBAL ID:200903025647289957
プラズマ放電処理水生成装置、並びにプラズマ放電水、植物成長促進液、化粧用水、工業用オゾン洗浄水、医療用オゾン殺菌水及び医療用オゾン治療水
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
落合 健
, 仁木 一明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-112236
公開番号(公開出願番号):特開2006-289236
出願日: 2005年04月08日
公開日(公表日): 2006年10月26日
要約:
【課題】 生成後、水中にオゾンを高い濃度のまま長期に亘って溶解させておくことができて、長期の保存に適したオゾン水が得られるようにし、これにより、生成装置をオゾン水の使用現場近くに設置する必要を無くして、利便性や量産性を高める。【解決手段】 プラズマ放電処理水生成装置は、水を貯留した水槽Vと、この水槽の水面上の空中に配設される放電用の陽電極Pと、この水槽の水中に少なくとも一部を臨ませた陰電極Mと、その陰電極Mより水中に電子を過度に放出させて陽電極Pと水面との間でプラズマ放電を生じさせ得るように該陽電極Pと陰電極Mとの間で高電圧放電を行うための高電圧放電手段Eとを備え、前記プラズマ放電により、そのプラズマ放電前の状態よりもオゾン濃度が高いプラズマ放電処理水が水槽内で得られるようにしている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
水を貯留した水槽(V)と、この水槽(V)の水面(Wf)上の空中に配設される放電用の陽電極(P)と、この水槽(V)の水中に少なくとも一部を臨ませた陰電極(M)と、その陰電極(M)より水中に電子を過度に放出させて陽電極(P)と水面(Wf)との間でプラズマ放電を生じさせ得るように該陽電極(P)と陰電極(M)との間で高電圧放電を行うための高電圧放電手段(E)とを少なくとも備え、
前記プラズマ放電により、そのプラズマ放電前の状態よりもオゾン濃度が高いプラズマ放電処理水が水槽(V)内で得られるようにしたことを特徴とする、プラズマ放電処理水生成装置。
IPC (8件):
B01F 1/00
, A01G 7/04
, A61K 8/19
, A61K 33/40
, A61L 2/18
, A61P 31/04
, B08B 3/08
, C02F 1/78
FI (8件):
B01F1/00 A
, A01G7/04 Z
, A61K7/00 B
, A61K33/40
, A61L2/18
, A61P31/04
, B08B3/08 Z
, C02F1/78
Fターム (22件):
3B201AA46
, 3B201BB92
, 4C058AA12
, 4C058BB07
, 4C058JJ07
, 4C058JJ14
, 4C083AB061
, 4C083AB062
, 4C083CC04
, 4C083FF01
, 4C086AA01
, 4C086HA08
, 4C086MA01
, 4C086MA04
, 4C086ZB35
, 4D050AA12
, 4D050AB06
, 4D050BB02
, 4D050BD04
, 4G035AA01
, 4G035AE05
, 4G035AE19
引用特許:
出願人引用 (10件)
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殺菌装置、液体循環装置および養液栽培システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-080517
出願人:アサヒビール株式会社, 国立大学法人室蘭工業大学
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オゾン水生成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-193981
出願人:株式会社日本ネイチュアロマン
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洗浄方法および洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-271510
出願人:株式会社東芝
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基板処理方法および基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-295269
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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特開平3-267196
-
特開平3-237979
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排水処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-069810
出願人:三菱重工業株式会社, 堀井清之
-
界面活性力の強い水の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-213486
出願人:有限会社電子物性技術研究所
-
機器・器具類の殺菌方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-254096
出願人:株式会社神戸製鋼所
-
放電処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-367891
出願人:株式会社神戸製鋼所
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審査官引用 (6件)
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