特許

J-GLOBAL ID：200903025680520893

フォトレジスト

発明者： ジェイムズ・ダブリュ・サッカリー ,  ピーター・アール・ヘイガーティー
出願人/特許権者： シプレイ・カンパニー・リミテッド・ライアビリティー・カンパニー
代理人 (1件)： 津国 肇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-325083
公開番号（公開出願番号）：特開平9-179303
出願日： 1996年12月05日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：

【要約】【課題】 サブミクロンおよびサブ半ミクロンの寸法の像を含む高い解像力を有する細線の画像を提供することができる新規な化学増幅型フォトレジスト組成物を得ることが望ましい。さらに、ディープUVによってイメージングする。【解決手段】 1)酸不安定性基を含む樹脂バインダ;2)光酸発生剤;ならびに3)i)式N(R1)4 A(式中、R1 は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキルまたは置換もしくは非置換のアリールであり、Aは、ハロゲン化物、置換もしくは非置換のスルホン酸塩または置換もしくは非置換のヒドロキシアルカノイルの対アニオンである)で示される化合物およびii)ホスホニウム化合物からなる群より選択されるフォトスピード制御剤を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

1)酸不安定性基を含む樹脂バインダ;2)光酸発生剤;ならびに3)i)式N(R1)4 A(式中、R1 は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキルまたは置換もしくは非置換のアリールであり、Aは、ハロゲン化物、置換もしくは非置換のスルホン酸塩または置換もしくは非置換のヒドロキシアルカノイルの対アニオンである)で示される化合物およびii)ホスホニウム化合物からなる群より選択されるフォトスピード制御剤を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-051243
  
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-268112   出願人：日本合成ゴム株式会社
• ポジチブ処理用感放射線組成物およびこれを使用するレリーフ構造体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-240821   出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• 特表平6-502260