特許
J-GLOBAL ID：200903025680520893
フォトレジスト
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
津国 肇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-325083
公開番号（公開出願番号）：特開平9-179303
出願日： 1996年12月05日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：
【要約】【課題】 サブミクロンおよびサブ半ミクロンの寸法の像を含む高い解像力を有する細線の画像を提供することができる新規な化学増幅型フォトレジスト組成物を得ることが望ましい。さらに、ディープUVによってイメージングする。【解決手段】 1)酸不安定性基を含む樹脂バインダ;2)光酸発生剤;ならびに3)i)式N(R1)4 A(式中、R1 は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキルまたは置換もしくは非置換のアリールであり、Aは、ハロゲン化物、置換もしくは非置換のスルホン酸塩または置換もしくは非置換のヒドロキシアルカノイルの対アニオンである)で示される化合物およびii)ホスホニウム化合物からなる群より選択されるフォトスピード制御剤を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
1)酸不安定性基を含む樹脂バインダ;2)光酸発生剤;ならびに3)i)式N(R1)4 A(式中、R1 は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキルまたは置換もしくは非置換のアリールであり、Aは、ハロゲン化物、置換もしくは非置換のスルホン酸塩または置換もしくは非置換のヒドロキシアルカノイルの対アニオンである)で示される化合物およびii)ホスホニウム化合物からなる群より選択されるフォトスピード制御剤を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/30 502 R
