特許

J-GLOBAL ID：200903014710629214

感放射線性樹脂組成物

発明者： 山近 幹雄 ,  小林 英一 ,  大田 利幸 ,  辻 昭
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
代理人 (1件)： 福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-268112
公開番号（公開出願番号）：特開平7-230169
出願日： 1994年10月07日
公開日（公表日）： 1995年08月29日
要約：

【要約】【目的】 特に解像度およびパターン形状が優れるとともに、感度および現像性にも優れ、しかもコントラスト、耐熱性等も良好な化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】 感放射線性樹脂組成物は、下記式で代表される共重合体(イ)および感放射線性酸発生剤(ロ)を含有するか、前記(イ)および(ロ)とアルカリ可溶性樹脂(ハ)とを含有することを特徴とする。【化1】〔ここで、mおよびnは各繰返し単位数を表す整数であり、0.1≦m/(m+n)<0.6および0.4 請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される共重合体(イ)および感放射線性酸発生剤(ロ)を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、R は水素原子またはメチル基を示し、mおよびnは各繰返し単位数を表す整数であり、0.1≦m/(m+n)<0.6および0.4 IPC (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

• パターン形成材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-275149   出願人：三菱電機株式会社
• 感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-271561   出願人：キヤノン株式会社
• 改良型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-266844   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• パターン形成材料およびパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-110471   出願人：富士通株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-270332   出願人：日本合成ゴム株式会社