特許
J-GLOBAL ID:200903025684996787
転写層にパターンを形成する方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-344218
公開番号(公開出願番号):特開2006-150741
出願日: 2004年11月29日
公開日(公表日): 2006年06月15日
要約:
【課題】充填剤を含む転写層に微細パターンを生産効率良く形成する方法を提供する。【解決手段】熱可塑性樹脂と充填剤を含む熱可塑性組成物からなる転写層に所望のパターンの反転パターンを有するモールドを圧着させる工程、該転写層に所望のパターンを形成する工程、および該モールドを該転写層から離脱させる工程を具備する転写層にパターンを形成する方法、ならびに、硬化性単量体と充填剤を含む硬化性組成物からなる転写層に所望のパターンの反転パターンを有するモールドを押し付ける工程、該転写層と該モールドを押し付けた状態で硬化性組成物を硬化させる工程、および硬化性組成物の硬化により形成された硬化物からモールドを離脱させる工程を具備する転写層にパターンを形成する方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
熱可塑性樹脂と充填剤を含む熱可塑性組成物からなる転写層に所望のパターンの反転パターンを有するモールドを圧着させる工程、該転写層に所望のパターンを形成する工程、および該モールドを該転写層から離脱させる工程を具備することを特徴とする転写層にパターンを形成する方法。
IPC (5件):
B29C 59/02
, C08J 5/18
, C08K 3/00
, C08L 27/12
, H01L 21/027
FI (5件):
B29C59/02 B
, C08J5/18
, C08K3/00
, C08L27/12
, H01L21/30 502D
Fターム (61件):
4F071AA07
, 4F071AB03
, 4F071AB06
, 4F071AD02
, 4F071AE17
, 4F071AH13
, 4F071BA06
, 4F071BB12
, 4F071BC02
, 4F071BC08
, 4F209AA16
, 4F209AA21
, 4F209AB11
, 4F209AB16
, 4F209AB18
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AG21
, 4F209AH73
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC05
, 4F209PC06
, 4F209PC07
, 4F209PN06
, 4F209PQ11
, 4J002AA011
, 4J002AA041
, 4J002BB021
, 4J002BB111
, 4J002BC021
, 4J002BC061
, 4J002BD031
, 4J002BD101
, 4J002BD121
, 4J002BD141
, 4J002BD151
, 4J002BG041
, 4J002BG051
, 4J002BG081
, 4J002BK001
, 4J002BL001
, 4J002CB001
, 4J002CF061
, 4J002CF071
, 4J002CF161
, 4J002CG001
, 4J002CH071
, 4J002CH091
, 4J002CL001
, 4J002CM041
, 4J002CN011
, 4J002CN031
, 4J002DA016
, 4J002DA076
, 4J002DA116
, 4J002FA056
, 4J002FA086
, 4J002FD016
, 4J002GQ05
, 5F046AA28
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
流体圧力インプリント・リソグラフィ
公報種別:公表公報
出願番号:特願2002-513006
出願人:ナノネックスコーポレーション, チヨウ,スティーヴン,ワイ.
-
段付き鋳張り捺印式リソグラフィー
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-604271
出願人:ボード・オヴ・リージェンツ,ザ・ユニヴァーシティ・オヴ・テキサス・システム
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