特許

J-GLOBAL ID：200903025706887332

可変成形ビーム評価方法

発明者： 中山田 憲昭 ,  桜井 秀昭 ,  阿部 隆幸
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-000984
公開番号（公開出願番号）：特開平9-186070
出願日： 1996年01月08日
公開日（公表日）： 1997年07月15日
要約：

【要約】【課題】 ゲイン及びオフセットの具体的なずれの量を正確に評価することができ、描画装置の寸法精度の向上に寄与する。【解決手段】 基板上に形成された感光性材料に対するパターン露光に用いる可変成形ビームの寸法を評価する可変成形ビーム評価方法において、同一寸法の複数の矩形パターン1を用意し、そのうち少なくとも1つは単一のショットで矩形パターンを描画し、残りは矩形パターンの一方の辺に平行な直線でパターンを分割して2つのショット2,3で描画し、これらを現像して得られた実際のパターンに対しSEMを用いて分割線と垂直方向のパターン寸法を測定し、測定されたパターン寸法と分割の有無或いは分割位置との関係を調査することによって可変成形ビームの寸法精度を評価する。

請求項（抜粋）：

基板上に形成された感光性材料に対するパターン露光に用いる可変成形ビームの寸法を評価する可変成形ビーム評価方法において、同一寸法の複数の矩形パターンを用意し、そのうち少なくとも1つは単一のショットで矩形パターンを描画し、残りは矩形パターンの一方の辺に平行な直線でパターンを分割して2つのショットで描画し、これらを現像して得られた実際のパターンに対し所定のパターン寸法測定手段を用いて分割線と垂直方向のパターン寸法を測定し、測定されたパターン寸法と分割の有無或いは分割位置との関係を調査することによって可変成形ビームの寸法精度を評価することを特徴とする可変成形ビーム評価方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504

FI (2件)：

H01L 21/30 541 Q ,  G03F 7/20 504

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 電子ビーム描画評価方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-195710   出願人：株式会社東芝
• 荷電粒子ビーム描画装置における矩形ビームのサイズ及び位置決め調整方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-016192   出願人：日本電子株式会社