特許
J-GLOBAL ID：200903025750116351
研磨剤及び製造方法並びに研磨方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
竹内 澄夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-120398
公開番号（公開出願番号）：特開2001-300843
出願日： 2000年04月21日
公開日（公表日）： 2001年10月30日
要約：
【要約】【課題】研磨表面に傷をつけることなく研磨する研磨剤及び研磨方法を与える。【解決手段】被研磨体の表面を研磨するための研磨剤は、母粒子とその表面に保持される超微細砥粒とから成る。超微細砥粒は研磨中に母粒子に保持される。また研磨中に超微細砥粒が母粒子の表面の一部から剥離しても再び母粒子の表面に付着することを特徴とする。研磨剤を製造するための方法は、超微細砥粒に母粒子を添加し、攪拌する工程から成る。さらに研磨剤を用いて研磨する方法は、研磨剤を定盤上に一定量で供給する工程と、定盤を所定の回転速度で回転させながら被研磨体をラップ加工する工程とから成る。
請求項（抜粋）：
被研磨体の表面を研磨するための研磨剤であって、母粒子とその表面に保持される超微細砥粒とから成る、研磨剤。
IPC (4件)：
B24B 37/00
, B24B 57/02
, H01L 21/304 622
, H01L 21/304
B24B 37/00 H
, B24B 57/02
, H01L 21/304 622 F
, H01L 21/304 622 B
3C047FF08
, 3C047GG15
, 3C058AA07
, 3C058CA01
, 3C058CB01
, 3C058DA02
, 3C058DA12
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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