特許

J-GLOBAL ID：200903025795541843

回路パターン検査装置

発明者： 早川 功一 ,  二宮 拓
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-107840
公開番号（公開出願番号）：特開2005-223355
出願日： 2005年04月04日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：

【課題】 欠陥画像取得時に高分解能でかつ高S/Nの欠陥画像を高効率で得るのに適した回路パターン検査装置を提供すること。【解決手段】 検査用一次電子線高速偏向制御回路43と欠陥画像取得用一次電子線偏向制御回路56はスイッチ54により切り替えられる。スイッチ54を検査用一次電子線高速偏向制御回路43に接続することによりステージ移動に追従した高速偏向が可能となり、これによって回路パターンの検査が行われる。また、スイッチ54を画像取得用一次電子線偏向制御56に接続することにより低速偏向が可能となる。この状態は回路パターン検査後の自動欠陥分類時に維持される。したがって、欠陥画像取得時には高分解能でかつ高S/Nの欠陥画像を高効率で得ることができる。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

回路パターンが形成された基板に荷電粒子線を照射する照射手段と、その照射によって前記基板から発生する信号を検出する検出手段と、前記荷電粒子線を偏向制御する偏向制御手段と、前記検出された信号を画像化して記憶する記憶手段と、その記憶された画像を他の同一の回路パターンから形成された画像と比較する比較手段と、その比較結果から前記回路パターンに存在する欠陥を判別する判別手段と、前記を備えた回路パターンの検査装置において、前記回路パターンに存在する欠陥判別と前記欠陥の種別の自動判別とを並行して実行することを特徴とする回路パターン検査装置。

IPC (2件)：

H01L21/66 ,  H01J37/28

FI (2件)：

H01L21/66 J ,  H01J37/28 B

Fターム (12件)：

4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB05 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  5C033UU01 ,  5C033UU05

引用特許：

出願人引用 (8件)

• 特開平3-167456号公報
  
• 特公平6-58220号公報
  
• 電子ビーム検査方法とそのシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-124951   出願人：日本ケー・エル・エー株式会社
• USP5,502,306号明細書
  
• 特開昭59-155941号公報
  
• 特開平2-15546号公報
  
• 環境制御型の走査型電子顕微鏡
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-124575   出願人：株式会社ニコン
• 特開昭59-160948号公報
  

審査官引用 (1件)

• 回路パターンの検査方法及び検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-326380   出願人：株式会社日立製作所