特許
J-GLOBAL ID：200903082721899316
回路パターンの検査方法及び検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-326380
公開番号（公開出願番号）：特開平11-160402
出願日： 1997年11月27日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】検査時間を増大させることなく、検出された欠陥部の欠陥内容を高速,高精度で検知できる方法及び装置の提供。【解決手段】被検査基板表面9表面の互いに同一設計パターンを有する第1,第2,第3の領域の電子線画像を順次取得しそれぞれ第一,第二,第三の画像記憶部46,47,48に一時記憶させ、先ず第1,第2の領域の記憶画像データ同士を比較演算部50で比較演算し、欠陥判定処理部51で両画像データ間の差異が所定値よりも大きかった場合には上記両領域の何れか一方にパターン欠陥があるものと判定した上で、両画像データを第四の画像記憶部49に送って記憶保存させる。次いで、第2、第3の領域の記憶画像データ同士を比較演算部50で比較演算し、欠陥判定処理部51で両画像データ間の差異が所定値よりも大きかった場合には第2の領域に真にパターン欠陥があるものと確定判定する。
請求項（抜粋）：
回路パターンが形成された基板表面の第一の領域を一次電子線で走査する工程と、上記一次電子線により上記第一の領域から二次的に発生する信号を検出する工程と、検出された信号から上記第一の領域の電子線画像を形成する工程と、上記第一の領域の電子線画像を記憶する工程と、上記基板表面の第二の領域を上記一次電子線で走査する工程と、上記一次電子線により上記第二の領域から二次的に発生する信号を検出する工程と、検出された信号から上記第二の領域の電子線画像を形成する工程と、上記第二の領域の電子線画像を記憶する工程と、上記第一の領域の記憶画像データと上記第二の領域の記憶画像データとを比較する工程と、該比較結果に基づいて上記基板表面の上記第一の領域及び上記第二の領域のうちの何れかに上記回路パターンの欠陥部が存在するか否かを判定する工程と、該判定結果に基づいて上記欠陥部が存在すると判定された領域の上記画像データを記憶保存する工程とを含んでなることを特徴とする回路パターンの検査方法。
IPC (4件)：
G01R 31/302
, G01N 23/225
, H01L 21/66
, G01N 21/88
G01R 31/28 L
, G01N 23/225
, H01L 21/66 J
, H01L 21/66 Z
, G01N 21/88 E
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (21件)
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