特許

J-GLOBAL ID：200903025805770234

酸化物膜の作製方法

発明者： 箱守 宗人
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 北村 欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-175034
公開番号（公開出願番号）：特開平10-018026
出願日： 1996年07月04日
公開日（公表日）： 1998年01月20日
要約：

【要約】【課題】 真空蒸着法において、スプラッシュの発生が抑制された又は発生なしに酸化物膜の高速成膜を可能にすること。【解決手段】 酸化物蒸発材料を用いて真空蒸着により酸化物膜を作製する方法において、該蒸発材料として3mm以上の粒径を有する酸化物を使用して蒸発を行い、酸化物膜を蒸着せしめる。

請求項（抜粋）：

酸化物蒸発材料を用いて真空蒸着により酸化物膜を作製する方法において、該蒸発材料として3mm以上の粒径を有する酸化物を使用して蒸発を行い、酸化物膜を蒸着せしめることを特徴とする酸化物膜の作製方法。

IPC (2件)：

C23C 14/08 ,  C23C 14/24

FI (4件)：

C23C 14/08 A ,  C23C 14/08 E ,  C23C 14/08 F ,  C23C 14/24 E

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特公昭60-013063
  
• 蒸着材料および透明バリヤーフィルムの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-117717   出願人：凸版印刷株式会社, ライボルトアクチエンゲゼルシヤフト
• 磁気記録媒体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-169783   出願人：ソニー株式会社
• 特許第2503756号