特許

J-GLOBAL ID：200903025806215218

ピコ秒レーザでのメモリリンク処理のためのレーザに基づくシステム

発明者： グ,ボ ,  スマート,ドナルド,ブイ. ,  コーディンレイ,ジェイムズ,ジェイ. ,  リ,ジョーハン ,  スベトコフ,ドナルド,ジェイ. ,  ジョンソン,シェパード,ディー. ,  アーマン,ジョナサン,エス.
出願人/特許権者： ジーエスアイ ルモニクス コーポレイション
代理人 (1件)： 柏原 三枝子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-534231
公開番号（公開出願番号）：特表2007-508694
出願日： 2004年10月05日
公開日（公表日）： 2007年04月05日
要約：

【課題】【解決手段】 ターゲット材料を囲む少なくとも1つの材料の電気的または物理的な特徴に望ましくない変化を起こすことなく、微視的な領域内においてターゲット材料を処理するためのレーザに基づくシステムにおいて、システムが、シードレーザと、光学増幅器と、ビーム発射装置とを具える。シードレーザは、第1の予め定められた波長を有する連続するレーザパルスを発生するためのシードレーザである。光学増幅器は、増幅された連続する出力パルスを得るために、連続するパルスの少なくとも一部を増幅するための光学増幅器である。ビーム発射装置は、増幅された連続する出力パルスの少なくとも1つのパルスをターゲット材料に発射して焦点を合わせるためのビーム発射装置である。少なくとも1つの出力パルスが約10ピコ秒から1ナノ秒未満の範囲のパルス持続時間を有する。パルス持続時間が熱処理範囲内である。少なくとも1つの焦点を合わせられた出力パルスがターゲット材料内の位置で十分なパワー密度を有し、ターゲット材料の反射力を減少して、ターゲット材料を除くために焦点を合わされた出力をターゲット材料内に効果的に結びつける。【選択図】図1a

請求項（抜粋）：

ターゲット材料を囲む少なくとも1つの材料の電気的または物理的な特徴に望ましくない変化を起こすことなく、微視的な領域内においてターゲット材料を処理するためのレーザに基づくシステムにおいて、システムが: 第1の予め定められた波長を有する連続するレーザパルスを発生するためのシードレーザと; 増幅された連続する出力パルスを得るために、連続するパルスの少なくとも一部を増幅するための光学増幅器と; 増幅された連続する出力パルスの少なくとも1つのパルスをターゲット材料に発射して焦点を合わせるためのビーム発射装置であって、少なくとも1つの出力パルスが約10ピコ秒から1ナノ秒未満の範囲のパルス持続時間を有し、パルス持続時間が熱処理範囲内であり、少なくとも1つの焦点を合わせられた出力パルスがターゲット材料内の位置で十分なパワー密度を有し、ターゲット材料の反射力を減少して、ターゲット材料を除くために焦点を合わされた出力をターゲット材料内に効果的に結びつける発射装置と、 を具えることを特徴とする、レーザに基づくシステム。

IPC (1件)：

H01S 3/00

FI (1件)：

H01S3/00 B

Fターム (16件)：

5F172AE03 ,  5F172AE06 ,  5F172AE08 ,  5F172AE09 ,  5F172AE13 ,  5F172AF02 ,  5F172AF03 ,  5F172AF06 ,  5F172AF07 ,  5F172AM08 ,  5F172DD03 ,  5F172EE13 ,  5F172NN26 ,  5F172NN27 ,  5F172NR03 ,  5F172NR22

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 標的材を処理するエネルギー効率に優れたレーザーベースの方法およびシステム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-548238   出願人：ジーエスアイルモニクスインコーポレイテッド
• 増幅され波長シフトされたパルス列を使用してターゲット材料を処理するためのエネルギー効率の良い方法及びシステム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-503483   出願人：ジェネラルスキャニングインコーポレイテッド
• 光走査装置及び投影装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-011821   出願人：キヤノン株式会社
• 特許第6421166号