特許

J-GLOBAL ID：200903025856515999

レーザーアブレーション成膜装置および成膜方法

発明者： 吉武 剛
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-387341
公開番号（公開出願番号）：特開2003-049262
出願日： 2001年12月20日
公開日（公表日）： 2003年02月21日
要約：

【要約】【課題】 レーザーアブレーション法による成膜において生成膜へのドロップレットの堆積を完全に防ぐ手段の開発。【構成】 エネルギービームをターゲットに照射して、ターゲットから発生する飛散粒子を基板に付着させるレーザーアブレーション成膜において、少なくとも回転軸と該回転軸に放射状に取り付けられた多数の平面吸着板とからなる高速回転体をターゲットと基板との間の基板寄りにに設け、該回転体の高速回転によりドロップレットを該平面吸着板全面で均一に捕捉吸着させることにより基板に付着する飛散粒子から完全に分離し、良質な膜を得る。

請求項（抜粋）：

エネルギービームをターゲットに照射して、ターゲットから発生する飛散粒子を基板に付着させるレーザーアブレーション成膜装置であって、ターゲットと基板との間の距離(X)は10〜100mmであり、少なくとも回転軸と該回転軸に放射状に取り付けられた多数の平面吸着板とからなる高速回転体をターゲットと基板との間に設け、該回転体は、その回転軸の方向および該平面吸着板の面が飛散粒子の飛翔方向に平行であり、該平面吸着板の回転方向の前側の面は飛散粒子のうちドロップレットのみを捕捉吸着する面をなし、該平面吸着板の粒子の飛翔方向の長さ(h:単位=mm)および隣接する平面吸着板間の内部角(θ:単位=度)はVmax<hω/θ(ただし、Vmaxは、捕捉すべきドロップレットの最高速度:単位=mm/秒、ωは、回転体の角速度:単位=度/秒)を満たすように定められており、該回転体の高速回転によりドロップレットを該平面吸着板に選択捕捉吸着させることにより基板に付着する飛散粒子から完全分離することを特徴とするレーザーアブレーション装置。

IPC (4件)：

C23C 14/28 ,  C23C 14/06 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/285

FI (4件)：

C23C 14/28 ,  C23C 14/06 E ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 21/285 S

Fターム (20件)：

4K029AA06 ,  4K029BA52 ,  4K029BB10 ,  4K029BD01 ,  4K029CA01 ,  4K029DB20 ,  4M104AA01 ,  4M104BB19 ,  4M104DD37 ,  4M104DD39 ,  4M104HH20 ,  5F103AA10 ,  5F103BB13 ,  5F103BB27 ,  5F103DD30 ,  5F103GG02 ,  5F103GG03 ,  5F103HH03 ,  5F103JJ03 ,  5F103RR06

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-205206   出願人：三菱マテリアル株式会社
• 特開昭61-170562
  
• β-FeSi2薄膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-349565   出願人：科学技術振興事業団