特許
J-GLOBAL ID:200903025932468385

ZnO系化合物半導体、それを用いた発光素子及びそれらの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 高橋 敬四郎 ,  来山 幹雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-075081
公開番号(公開出願番号):特開2007-251027
出願日: 2006年03月17日
公開日(公表日): 2007年09月27日
要約:
【課題】 発光デバイスとして適した半導体発光素子を作製するため、活性化率と結晶性の双方を向上させるZnO系化合物半導体、それを用いた半導体発光素子及びそれらの製造方法を提供する。【解決手段】 基板上に、n型不純物をドープしたn型ZnO系化合物半導体層を+c軸方向へ結晶成長させる。n型ZnO系化合物半導体層にアニール処理を施し、n型不純物の活性化率を向上させる。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
(a)基板上方に、n型不純物をドープしたn型ZnO系化合物半導体層を+c軸方向へ結晶成長させる工程と、 (b)前記n型ZnO系化合物半導体層にアニール処理を施し、前記n型不純物の活性化率を向上させる工程と を含むZnO系化合物半導体の製造方法。
IPC (1件):
H01L 33/00
FI (1件):
H01L33/00 D
Fターム (7件):
5F041AA03 ,  5F041AA40 ,  5F041CA05 ,  5F041CA41 ,  5F041CA73 ,  5F041FF01 ,  5F041FF11
引用特許:
審査官引用 (2件)

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