特許

J-GLOBAL ID：200903025962398578

パターン検査装置、パターン検査方法及びプログラム

発明者： 磯村 育直
出願人/特許権者： アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社
代理人 (2件)： 松山 允之 ,  池上 徹真
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-295223
公開番号（公開出願番号）：特開2009-121902
出願日： 2007年11月14日
公開日（公表日）： 2009年06月04日
要約：

【目的】擬似欠陥を低減させるパターン検査を行う装置および方法を提供することを目的とする。【構成】本発明の一態様のパターン検査装置100は、パターン形成された被検査試料における光学画像データを取得する光学画像取得部150と、前記光学画像データと前記光学画像データに対応する参照画像データとを入力し、前記光学画像データの複数の画素値と前記参照画像データの複数の画素値との関係を基に、前記光学画像データの画素値レベルと前記参照画像データの画素値レベルとの少なくとも一方を調整するレベル調整回路140と、画素値レベルが調整された前記光学画像データと前記参照画像データとを比較する比較回路108と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

パターン形成された被検査試料における光学画像データを取得する光学画像取得部と、 前記光学画像データと前記光学画像データに対応する参照画像データとを入力し、前記光学画像データの複数の画素値と前記参照画像データの複数の画素値との関係を基に、前記光学画像データの画素値レベルと前記参照画像データの画素値レベルとの少なくとも一方を調整するレベル調整部と、 画素値レベルが調整された前記光学画像データと前記参照画像データとを比較する比較部と、 を備えたことを特徴とするパターン検査装置。

IPC (2件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/24

FI (3件)：

G01N21/956 A ,  G01B11/24 F ,  G01B11/24 K

Fターム (41件)：

2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065CC17 ,  2F065DD04 ,  2F065DD11 ,  2F065EE03 ,  2F065FF01 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065MM03 ,  2F065NN17 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ04 ,  2F065QQ08 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ14 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ33 ,  2F065QQ36 ,  2F065QQ42 ,  2F065RR05 ,  2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051CA04 ,  2G051DA01 ,  2G051DA07 ,  2G051DA08 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051EC03 ,  2G051ED07

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 画像入力装置及び検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-048117   出願人：株式会社東芝, 株式会社ルネサステクノロジ
• 欠陥検査方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-296649   出願人：株式会社日立製作所

審査官引用 (1件)

• 欠陥検査方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-296649   出願人：株式会社日立製作所