特許

J-GLOBAL ID：200903025982395559

発泡ポリウレタンおよびその製造方法

発明者： 橋阪 和彦 ,  太田 雅巳 ,  城 邦恭
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-357387
公開番号（公開出願番号）：特開2005-120253
出願日： 2003年10月17日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：

【課題】従来の研磨パッドにおいては、研磨傷の防止,研磨精度,研磨安定性,研磨パッド寿命等、求められる特性全てを満足するものがなかった。 【解決手段】(1)密度が0.50〜1.00g/cm3、平均気泡径が10〜80μm、C型硬度が50〜90度の範囲であることを特徴とする発泡ポリウレタン。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

密度が0.50〜1.00g/cm3、平均気泡径が10〜80μm、C型硬度が50〜90度の範囲であることを特徴とする発泡ポリウレタン。

IPC (3件)：

C08G18/00 ,  B24B37/00 ,  H01L21/304

FI (3件)：

C08G18/00 F ,  B24B37/00 C ,  H01L21/304 622F

Fターム (15件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CB02 ,  3C058CB10 ,  3C058DA17 ,  4J034CA03 ,  4J034HA06 ,  4J034JA06 ,  4J034MA24 ,  4J034NA01 ,  4J034NA03 ,  4J034PA05 ,  4J034QB01 ,  4J034QB14 ,  4J034QB19

引用特許：

出願人引用 (3件)

• シリコンウエハー研磨用シート
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-369705   出願人：株式会社クラレ
• 特開昭54-43234号公報
  
• 高分子微小エレメントを含む高分子基材
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平6-506309   出願人：ロデールインコーポレーテッド

審査官引用 (2件)

• 研磨パッド用ポリウレタン発泡体の製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-025343   出願人：東洋ゴム工業株式会社
• 研磨パッド、研磨装置、およびそれを用いた研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-311241   出願人：東レ株式会社